今天我們主要來講解下等離子清洗機在金屬刻蝕上的應用：鈍化層刻蝕；工藝的目的是為了防止金屬表面腐蝕同時清潔表面提高附著力，為后續(xù)工藝做準備；下面就來看下應用案例。

1、等離子表面處理設備刻蝕應用

蝕刻鋁金屬復合膜工藝:

①蝕刻抗反射層。

②去除物體表面的自然氧化層(可以與第①步結合)。

③金屬鋁的主蝕刻，通常是用反應產(chǎn)物探測器來偵測金屬鋁的蝕刻終止。

④去除鋁殘留物，這一步后也可能是主蝕刻步驟的延續(xù)。

⑤底部阻擋層蝕刻(亦可能與第④步結合）。

⑥去除刻蝕殘留物(可以和下一步驟結合)

⑦去除光刻膠。

2、等離子表面處理設備注意事項

2-1 在金屬刻蝕時，需要將無需刻蝕部位涂覆光刻膠進行保護，刻蝕后進行去除；

2-2 刻蝕氣體為CHF3、N、CH4等腐蝕性氣體，有一定危害性，需要注意使用安全；

2-3 N2保護氣體在蝕刻過程中產(chǎn)生太多的側壁保護，容易形成梯形的側壁形貌；CHF3對側壁的保護則不夠完善；CF4氣體實現(xiàn)了均勻的側壁保護，并能保持幾近垂直的側壁角度，可以提供側壁保護。 （具體使用什么樣的氣體配方要根據(jù)實驗結果決定，最好進行多次試樣找到最佳參數(shù)）

2-4 需要考量設備穩(wěn)定，當工藝參數(shù)確定后，穩(wěn)定的處理效果非常重要，工藝穩(wěn)定，處理一致性要好。

目前等離子表面處理設備的刻蝕在半導體行業(yè)應用廣泛，集成電路器件和金屬連線結構等需要鈍化層的保護，防止后續(xù)工藝中切割、清洗、封裝破壞，導致不良品的產(chǎn)生。